一種雙面涂布機的制作方法

文檔序號:18172431發布日期:2019-07-13 09:54
一種雙面涂布機的制作方法

本發明涉及涂布機技術領域,尤其涉及一種雙面涂布機。



背景技術:

涂布機是主要應用于鋰電池銅箔和鋁箔,顯示器超柔膜,玻璃纖維膜,PET、PVC、PP膜生產等加工領域中,其將成卷的基材涂上一層特定功能的膠、涂料或油墨等,經烘干后收卷。一般涂布機只能一次完成單面涂布,當基材需要雙面涂布時,就需要多次收放卷進行操作,生產效率低,而且造成資源的浪費,增加生產成本。而目前具有的雙面涂布機,要么結構過于緊湊簡單,放料、正面涂布、反面涂布、收料分工模糊,涂布效果差;要么結構過于復雜,排布不合理,浪費空間資源。



技術實現要素:

本發明的目的在于解決上述問題不足,提供一種結構設計合理,涂布效果理想,合理利用空間的雙面涂布機。

本發明所采用的技術方案是:一種雙面涂布機,包括依次擺放的正印機構、放卷機構、反印機構、收卷機構,還包括將所述正印機構、放卷機構、反印機構、收卷機構相互串聯的聯接橫梁,所述聯接橫梁上設置有導向料材的若干過料導輥,還包括分別與正印機構和反印機構對接的兩個用于烘干料材的烘干機構,料材通過放卷機構放料經聯接橫梁上的過料導輥至正印機構進行正面涂布、烘干,然后返經放卷機構至反印機構進行反面涂布、烘干,最后由收卷機構收卷。

其中,所述烘干機構包括烘干機及導出其暖氣的上烘箱和下烘箱。

其中,所述放卷機構包括放卷機架,設置于所述放卷機架上的放卷滾筒、與放卷滾筒連接的放卷傳動電機、第一糾偏結構、放卷張力擺臂和傳料張力擺臂,所述放卷傳動電機帶動放卷滾筒轉動放料后,料材先后繞向所述第一糾偏結構和放卷張力擺臂后出料,所述傳料張力擺臂用于接繞從正印機構出來的料材。

其中,所述第一糾偏結構包括第一檢測光電眼、第一糾偏裝置。

其中,所述放卷滾筒為兩個。

其中,所述正印機構包括正印機架,設置于正印機架上的正印傳動電機、正印膠水盤、正印網線輥、正印壓膠輥、正印刮刀以及若干正印過料導輥,所述正印傳動電機與正印網線輥相連接,所述正印膠水盤、正印網線輥、正印壓膠輥由下至上依次排列,所述正印網線輥與正印壓膠輥壓接在一起,所述正印網線輥緊挨正印膠水盤,所述正印刮刀設置于正印網線輥一側,所述正印過料導輥設置于烘干機構內。

其中,所述反印機構包括反印機架,設置于反印機架上的反印傳動電機、反印膠水盤、反印網線輥、反印壓膠輥、反印刮刀以及若干反印過料導輥,所述反印傳動電機與反印網線輥相連接,所述反印膠水盤、反印網線輥、反印壓膠輥由下至上依次排列,所述反印網線輥與反印壓膠輥壓接在一起,所述反印網線輥緊挨反印膠水盤,所述反印刮刀設置于反印網線輥一側,所述反印過料導輥設置于烘干機構內。

其中,所述收卷機構包括收卷機架,設置于所述收卷機架上的收卷張力擺臂、第二糾偏結構、收卷滾筒及與其相連的收卷傳動電機,接收的料材先后穿繞所述收卷張力擺臂、第二糾偏結構后經收卷滾筒收卷。

其中,所述第二糾偏結構包括第二檢測光電眼、第二糾偏裝置。

其中,所述正印機構、放卷機構、反印機構、收卷機構底部設置有水平調節裝置。

本發明與現有技術相比具有以下優點:本發明的一種雙面涂布機,包括依次擺放的正印機構、放卷機構、反印機構、收卷機構、烘干機構,各個機構獨立設置,以便對各個獨立機構最優化設計其對應最優的處理方式,實現極大程度的提升涂布質量;排布合理,通過聯接橫梁和過料導輥自然銜接過渡,通過從放卷機構放料至正印機構正印,再重回放卷機構翻面后至反印機構反印,最后收卷機構收卷完成料材正反面的涂布,此外,烘干機構對正印機構和反印機構的料材進行烘干處理,各個機構布置布局能充分合理的利用空間。

附圖說明

圖1是本發明的立體結構示意圖。

圖2是本發明的正面結構示意圖。

圖3是本發明對接烘干機的俯視結構示意圖。

圖中標號所示為1-正印機構、11-正印機架、12-正印傳動電機、13-正印膠水盤、14-正印網線輥、15-正印壓膠輥、16-正印刮刀、17-正印過料導輥、2-放卷機構、21-放卷機架、22-放卷滾筒、23-放卷傳動電機、24-第一糾偏結構、241-第一檢測光電眼、242-第一糾偏裝置、25-放卷張力擺臂、26-傳料張力擺臂、3-反印機構、31-反印機架、32-反印傳動電機、33-反印膠水盤、34-反印網線輥、35-反印壓膠輥、36-反印刮刀、37-反印過料導輥、4-收卷機構、41-收卷機架、42-收卷張力擺臂、43-第二糾偏結構、431-第二檢測光電眼、432-第二糾偏裝置、44-收卷滾筒、45-收卷傳動電機、5-聯接橫梁、6-過料導輥、7-烘干機構、71-烘干機、72-上烘箱、73-下烘箱、8-水平調節裝置。

具體實施方式:

為加深本發明的理解,下面將結合實施案例和附圖對本發明作進一步詳述。本發明可通過如下方式實施:

參見圖1和2中所示的一種雙面涂布機,包括依次擺放的正印機構1、放卷機構2、反印機構3、收卷機構4,還包括將所述正印機構1、放卷機構2、反印機構3、收卷機構4相互串聯的聯接橫梁5,所述聯接橫梁5上設置有導向料材的若干過料導輥6,各個機構獨立設置,以便對各個獨立機構最優化設計其對應最優的處理方式,實現極大程度的提升涂布質量,排布合理,通過聯接橫梁5和過料導輥6自然銜接過渡。還包括分別與正印機構1和反印機構3對接的兩個用于烘干料材的烘干機構7,料材通過放卷機構2放料經聯接橫梁5上的過料導輥6至正印機構1進行正面涂布、烘干,然后返經放卷機構2進行翻面后至反印機構3進行反面涂布、烘干,最后由收卷機構4收卷,由于烘干機構7也是獨立設置,烘干效果更佳,可分別設立于正印機構1和反印機構3側面,空間充分利用。

具體的,所述烘干機構7包括烘干機71及導出其暖氣的上烘箱72和下烘箱73,由烘干機71制造熱暖氣,經上烘箱72和下烘箱73雙重作用至各自對應的正印機構1和反印機構3,使涂布后的料材干燥迅速充分,有利于涂布質量的提升。

具體的,所述放卷機構2包括放卷機架21,設置于所述放卷機架21上的放卷滾筒22、與放卷滾筒22連接的放卷傳動電機23、第一糾偏結構24、放卷張力擺臂25和傳料張力擺臂26。通過所述放卷傳動電機23帶動放卷滾筒22轉動放料后,料材先后繞向所述第一糾偏結構24和放卷張力擺臂25后出料,其中第一糾偏結構24使放卷滾筒22放出的料材若出現左右偏擺不齊能及時得到修正,并通過放卷張力擺臂25將傳輸中的料材進行張緊,確保傳輸時的系統卡頓不會影響到料材的正常輸送,所述傳料張力擺臂26用于接繞從正印機構1出來的料材,通過在放卷機構2加裝傳料張力擺臂26使料材在正印機構1和反印機構3之間的輸送中段保持張緊狀態,確保料材的穩定輸送。

進一步的,所述第一糾偏結構24包括第一檢測光電眼241、第一糾偏裝置242,以第一檢測光電眼241接收并生成料材輸送時左右偏擺的信號,第一糾偏裝置242根據反饋的信號對輸送中的料材進行糾偏。

進一步的,所述放卷滾筒22為兩個,通過設置兩個放卷滾筒22,可以根據需要選擇放卷個數,實現單層料材或雙層料材的涂布。

具體的,所述正印機構1包括正印機架11,設置于正印機架11上的正印傳動電機12、正印膠水盤13、正印網線輥14、正印壓膠輥15、正印刮刀16以及若干正印過料導輥17。所述正印傳動電機12與正印網線輥14相連接驅動正印網線輥14轉動,所述正印膠水盤13、正印網線輥14、正印壓膠輥15由下至上依次排列,其中正印網線輥14與正印壓膠輥15壓接在一起,所述正印網線輥14緊挨正印膠水盤13,所述正印刮刀16設置于正印網線輥14一側,正印網線輥14轉動時粘帶正印膠水盤13內的正印原料,同時以正印刮刀16控制粘帶在正印網線輥14上的正印原料的用量厚度,再通過與正印網線輥14壓接的正印壓膠輥15將正印原料壓入料材上,所述正印過料導輥17穿過烘干機構7,從而使正印涂布后的料材經烘干機構7充分烘干。

具體的,所述反印機構3包括反印機架31,設置于反印機架31上的反印傳動電機32、反印膠水盤33、反印網線輥34、反印壓膠輥35、反印刮刀36以及若干反印過料導輥37。所述反印傳動電機32與反印網線輥34相連接驅動反印網線輥34轉動,所述反印膠水盤33、反印網線輥34、反印壓膠輥35由下至上依次排列,所述反印網線輥34與反印壓膠輥35壓接在一起,所述反印網線輥34緊挨反印膠水盤33,所述反印刮刀36設置于反印網線輥34一側。反印網線輥34轉動時粘帶反印膠水盤33內的反印原料,同時以反印刮刀36控制粘帶在反印網線輥34上的反印原料的用量厚度,再通過與反印網線輥34壓接的反印壓膠輥35將反印原料壓入料材上,所述反印過料導輥37穿過烘干機構7,從而使反印涂布后的料材經烘干機構7充分烘干。

其中,所述收卷機構4包括收卷機架41,設置于所述收卷機架41上的收卷張力擺臂42、第二糾偏結構43、收卷滾筒44及與其相連的收卷傳動電機45。接收的料材先后穿繞所述收卷張力擺臂42、第二糾偏結構43后經收卷滾筒44收卷,其中收卷張力擺臂42確保從反印機構3過來的料材處于張緊狀態,便于實時傳輸,穩定輸送,并以第二糾偏結構43調整由于傳輸偏差導致的左右偏擺,使收卷時整齊。

其中,所述第二糾偏結構43包括第二檢測光電眼431、第二糾偏裝置432,以第二檢測光電眼431接收并生成料材輸送時左右偏擺的信號,第二糾偏裝置432根據反饋的信號對輸送中的料材進行糾偏。

其中,所述正印機構1、放卷機構2、反印機構3、收卷機構4底部設置有水平調節裝置8,便于調整各個機構的水平,確保各個部件的水平均衡,重力均衡,不至于由于重心偏差趙成的收卷、放卷、輸送過程中料材偏離正常軌跡過于嚴重。

最后應說明的是:以上所述僅為本發明的優選實施例而已,并不用于限制本發明,凡在本發明的精神和原則之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護范圍之內。

再多了解一些
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